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武漢離子氮化爐的操作流程與規(guī)范要求

作者:admin 發(fā)布日期: 2021-07-31 二維碼分享

武漢離子氮化爐是在真空容器中使含氮稀薄氣體在直流電場中電離,正離子轟擊金 屬零件表面形成氮化層,以達到表面硬化的設備。小編就介紹它的操作流程和工藝規(guī)范要求,都來了解一下吧!

滲氮層隨時間的延長而增厚,初期增長率大,以后漸趨緩慢,一般滲速在0.01mm/h左右

隨保溫時間延長,氮化物聚集長大,硬度下降。溫度越高,時間越長,長大越厲害

合髙壓(工作電壓電阻器在零部位)通冷卻循環(huán)水。電阻器擋位為打弧擋位。打弧擋位阻值加很大,根據的電流量小,提溫當電阻較小,根據的電流量大。打弧擋位的電流量通常為額定電壓的五分之一上下。

遲緩調整電阻器至須部位,至爐內起輝爐內鋼件清打弧工作中。不能使爐內打弧強烈。

揮發(fā)率為20 一40 %時氮原子多,零件表面可大量吸收氮

揮發(fā)率超過60 %則氣氛中的氫含量高達52%以上,將產生脫氮作用,此時不僅氮原子數量減小,而且大量氫分子和氮分子停滯于零件表面附近,使氮原子不易為表面所吸收,從而使零件表面含氮量降低,滲氮層深也減薄。氮化前應對加熱爐、氮化罐和整個氮化系統(tǒng)的管道接頭處進氣密性檢查,讓氨氣不漏和在管路中的暢無阻。